2018年(第九屆)中國(guó)壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工年會(huì)繼續(xù)圍繞“壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工”為學(xué)術(shù)主題。本次年會(huì),是繼2001年在山東煙臺(tái)、2003年在廣東深圳、2005年在浙江寧波、2007年在重慶、2009年在廣東深圳、2012年在蘇州、2014年在廣州、2016年在江蘇南通之后舉行的第九次中國(guó)壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工學(xué)術(shù)年會(huì),是一次高水平的學(xué)術(shù)交流和技術(shù)交流會(huì)議,也將是對(duì)近年來(lái)中國(guó)在壓鑄、擠壓鑄造和半固態(tài)加工等方面科技成果的一次大檢閱。
飛納電鏡期待與參會(huì)人員就掃描電鏡在壓鑄、擠壓鑄造、半固態(tài)加工的應(yīng)用進(jìn)行詳細(xì)討論。誠(chéng)摯邀請(qǐng)參會(huì)人員蒞臨飛納電鏡展位參觀指導(dǎo)。
會(huì)議時(shí)間:2018 年 11 月 23 日 - 26 日
會(huì)議地點(diǎn):廣東珠海德翰大酒店
會(huì)議主題
飛納臺(tái)式掃描電鏡在金屬領(lǐng)域的應(yīng)用
一、金相樣品背散射成像分析
飛納電鏡背散射探頭成像可以顯示出材料的成分襯度,而背散射探頭屬于被動(dòng)信號(hào)采集,對(duì)燈絲亮度有著*的要求。飛納電鏡采用高亮度 CeB6 燈絲或肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源,使其背散射成像可以反映更多材料信息,同時(shí)也保證優(yōu)異的二次電子形貌像。
圖1. 為金相樣品的背散射成像。沿著箭頭方向從內(nèi)到外可以看到 4 種不同的成分襯度,且分界線非常明顯。代表這4個(gè)位置不同種類元素的含量各不相同,并且沿著箭頭方向,重元素占比越來(lái)越低。
二、污染、夾雜等缺陷能譜分析
壓鑄工件由于原材料、脫模劑、工藝控制等原因,往往存在污點(diǎn)、霉斑或夾渣等缺陷。在進(jìn)行缺陷分析時(shí),需要通過(guò)能譜測(cè)定成分種類,進(jìn)而判定缺陷產(chǎn)生的原因,為工藝調(diào)整提供指導(dǎo)。
得益于良好的燈絲亮度、超薄氮化硅窗口和大面積能譜活性面積,飛納電鏡在能譜分析中有著出色表現(xiàn)。通過(guò)能譜面掃可以獲取材料元素的分布情況,如圖 2 所示。
三、失效工件的分析
在失效分析中,背散射成像與二次電子成像各有優(yōu)勢(shì):背散射成像可以看到不同的成分襯度,二次電子成像在刻畫表面形貌起伏時(shí)更具立體感,細(xì)節(jié)更豐富。結(jié)合兩種成像模式,可以更準(zhǔn)確的反映出材料的結(jié)構(gòu)特征、雜質(zhì)種類和失效機(jī)理。
鑄件中析出物背散射電子圖像和二次電子圖像
斷口背散射電子圖像和二次電子圖像
四、飛納電鏡全景拼圖
飛納電鏡大樣品室版 Phenom XL,有較大的倉(cāng)室空間,方便觀察大件樣品。同時(shí)配有全景拼圖功能,可以得到極大視野的掃描電鏡圖像,大小隨心,一覽無(wú)余。
五、、便捷、穩(wěn)定
飛納電鏡全自動(dòng)操作、15秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3年更換燈絲等特點(diǎn),無(wú)需防震環(huán)境,可放置在任意樓層,能譜無(wú)外接部件,無(wú)需液氮冷卻。、便捷、穩(wěn)定的優(yōu)勢(shì),幫助用戶在保證檢測(cè)質(zhì)量的前提下,大幅提升工作效率。
目前,飛納電鏡已入駐多家高校、研究所和企業(yè),助力金屬領(lǐng)域的研究與開(kāi)發(fā)。
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